薄膜・断面試料作製装置(CP)


薄膜・断面試料作製装置(CP)
メーカー JEOL
主な用途 資料面上にセットされた遮蔽版にイオンビームを垂直に照射し、
イオン照射を受けエッチングされる領域と遮蔽版で遮蔽された領域に沿って断面を作製する装置。資料を冷却することにより、熱ダメージの少ない断面を作製出来る。
スペック a. 最大試料サイズ 幅10mm×長さ8㎜×厚さ3㎜
b. 試料移動範囲 X方向：±6mm Y方向:±2.5mm
c. イオン加速電圧 2∼8kV
d. 液体窒素による冷却機構 －120℃∼0℃に設定可能

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