ナノスケールX線構造評価装置 |
上外観図
左下サンプルセッティングの様子
右下装置内部の様子
◆注意事項◆
新領域創成科学研究科RI部局講習会の受講が必要
| メーカー | Rigaku |
| 主な用途 | X線の小角散乱によって、高分子などの構造を評価することができる。 原子・低分子結晶スケールで構造評価する広角散乱とは異なり、高分子の分子鎖スケールの構造評価 に向いている。固体、分散液いずれも測定可能である。 |
| スペック | a. X線源 CuKα線 b. カメラ長63-1350 mm(可変) c. ビームストップ 垂直入射用φ1.5 mm, 2.0 mm, 4.0 mm, 7.0 mm, 水平入射(GI)用 d. 測定可能散乱角 最大角：カメラ長63 mm設定時 2θ = 57.789°（Qmax = 39.383 nm-1） 最小角：カメラ長1400 mm、ビームストップφ2.0 mm 設定時 2θ = 0.041°（Qmin = 0.029 nm-1） e. サンプル形状 サンプルホルダに固定(挟む、あるいは貼り付ける)できる固体、或いは、 キャピラリ―に封入した分散液 |