ナノスケールX線構造評価装置(SAXS)

ナノスケールX線構造評価装置

外観図
左下サンプルセッティングの様子
右下装置内部の様子

◆注意事項◆
新領域創成科学研究科RI部局講習会の受講が必要

メーカーRigaku
主な用途X線の小角散乱によって、高分子などの構造を評価することができる。
原子・低分子結晶スケールで構造評価する広角散乱とは異なり、高分子の分子鎖スケールの構造評価
に向いている。固体、分散液いずれも測定可能である。
スペックa. X線源 CuKα線
b. カメラ長63-1350 mm(可変)
c. ビームストップ 垂直入射用φ1.5 mm, 2.0 mm, 4.0 mm, 7.0 mm, 水平入射(GI)用
d. 測定可能散乱角
最大角:カメラ長63 mm設定時 2θ = 57.789°(Qmax = 39.383 nm-1)
最小角:カメラ長1400 mm、ビームストップφ2.0 mm 設定時 2θ = 0.041°(Qmin = 0.029 nm-1)
e. サンプル形状 サンプルホルダに固定(挟む、あるいは貼り付ける)できる固体、或いは、
キャピラリ―に封入した分散液

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